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      ALD的基本原理
      
    
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      ALD的基本原理
      
      
      
	
	原子層沉積（ALD）是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應腔室并沉積基體上，通過化學吸附形成陳寂膜的一種方法。


	  當前驅體達到沉積基體表面，它們會在其表面化學吸附并發生表面反應。
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